電子ジャーナル 技報R&Dレビュー

要旨集●Vol.40 No.3(2005年9月発行)
 研究報告
p.40

明渡邦夫,三浦篤志,藤川久喜,多賀康訓

Organic light emitting diodes (OLEDs) with thin-film passivation are expected to provide a means of producing next-generation flat-panel wide-area displays that are thin, lightweight, and flexible. Thick silicon nitride (SiNx) films fabricated by a plasma-CVD method are already recognized as being a practical passivation film for OLEDs, but these are not suitable for automotive applications as cracks are generated in the films as a result of the thermal stress that is caused by the high temperatures that can arise in automobiles. To overcome this problem, we have developed plasma-CVD SiNx / plasma-polymerized hydrogenated carbon nitride (CNx :H) multi-layer films that increase the longevity of passivated OLEDs in automotive applications. The films exhibit a high barrier performance against moisture even at high temperatures, because the thermal stress in the films is released by the soft CNx :H layers and no cracks are produced. Indeed, OLEDs with a multi-layer passivation film lasted over 1000 hours in driving tests at 85℃ (initial luminance = 400 cd/m2), while OLEDs with the thick SiNx passivation film soon failed and no longer emitted light.


 薄膜封止有機EL素子は薄型・軽量・大面積かつフレキシビリティを有した次世代フラットパネルディスプレイとして期待されている。代表的な封止膜としてプラズマCVD法で作製した窒化シリコン厚膜がよく知られているが,高温の車内環境下で使用した場合,熱応力により封止膜にクラックが発生して有機EL素子が破壊してしまうために,車載用途として使用することは困難である。そこで我々は車載環境に置いても十分な耐久性を有した新たな封止膜としてプラズマCVD-SiNx/プラズマ重合CNx : H多層積層封止膜の開発を行った。この封止膜はSiNx膜の間に挟まれた柔らかいCNx : H膜が応力緩和層として働くために熱応力によるダメージを受けず,高温環境下でも十分な封止性を保つことができる。実際,85℃の環境下で初期輝度400cd/m2で駆動試験を行った結果,SiNx厚膜封止有機EL素子はすぐに破壊されて光らなくなったのに対して,積層膜封止有機EL素子では1000時間以上発光し続けた。

 

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P.45

森川健志,旭良司,大脇健史,
青木恒勇,鈴木憲一,多賀康訓

A new photocatalyst, known as nitrogen-doped TiO2 (TiO2-xNx), yielding high reactivity under visible light irradiation, together with high potential for mass-productivity, has been developed by using a highly time-efficient development technique that combines compu-tational materials design with experimental syntheses. Under visible light irradiation, TiO2-xNx films and powders exhibit significant advantages over commercially-available TiO2 in terms of optical absorption and photocatalytic decomposition rates with respect to gaseous acetaldehyde and toluene, etc. The active wavelength range of TiO2-xNx (below 520 nm) covers a wider irradiation energy range for white fluorescent and incandescent light than that of TiO2. As a result, TiO2-xNx exhibits a photodecomposition rate for gaseous acetaldehyde that is more than 5 times higher than that of TiO2 under interior illumination (300-600 lux). It also exhibits significant antibacterial properties. TiO2-xNx is therefore a promising photocatalytic material, and it possesses other desirable features; it shows highly reproducible photocatalytic activity, it has a potential for mass-production, and it is environmentally benign (no toxic ingredients). Further development of this material is now underway, so it should be available to contribute to the human environment by reducing indoor VOCs (Volatile Organic Compounds) in the very near future.


 可視光下での高い反応速度と生産性を兼ね備えた新しい光触媒,窒素ドープ酸化チタン (TiO2-xNx) を開発した。開発時には,第一原理計算と実験を併行させることにより,高効率な開発を実現した。TiO2-xNx薄膜や粉末は,可視光照射下におけるアセトアルデヒドやトルエンなどの揮発性有害物質の分解速度において,市販のTiO2光触媒よりも高い値を示す。この光触媒は波長520nm以下の可視光を吸収するため,蛍光灯や白熱灯の吸光率が高く,例えば300-600ルクスの照度下でTiO2の5倍以上のアセトアルデヒド分解速度を示す。また蛍光灯照射下での抗菌性も示す。この材料は再現性,生産性,毒性物質を含まない,という観点で実用化への障壁が比較的小さく,現在商品化が進められている。近い将来,可視光触媒が室内VOCの抑制などで,人間の居住環境において不可欠になることを期待する。

 

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